由21ic中国电子网制作的王丽颖网站：21ic.com华为被禁后，国内替代成为半导体公司关注的焦点。
作为中国最大，技术最先进的半导体代工厂，中芯国际寄予厚望。
最近，有媒体报道，中芯国际的14纳米工艺量产后，N + 1代工艺已进入客户介绍阶段，预计将于2021年开始量产。
新一代FinFET 14nm工艺已于2019年第四季度量产，第二代FinFET N + 1工艺已进入客户引入阶段，预计将在2020年底进行小批量测试。
在不使用EUV光刻机的情况下，中芯国际已经实现了低于14nm的先进制造工艺，这不能不说是一个突破。
据了解，中芯国际目前在国内四个城市拥有多家晶圆厂，分别是上海的8英寸晶圆厂和12英寸晶圆厂，以及天津亦庄12英寸晶圆厂的第一阶段和第二阶段。
天津和天津分别在深圳拥有一个8英寸晶圆厂。
作为一家纯粹的铸造公司，中芯国际目前可以为全球客户提供从0.35微米到14纳米不等的铸造生产服务。
同时，它还可以为客户提供从生产，包装到测试的全方位晶片生产服务。
解决方案。
目前，中芯国际的工艺技术主要分为三类：高级逻辑技术（14nm，正在开发的N + 1生成工艺等），成熟的逻辑技术（28nm，40nm，65nm / 55nm，90nm，0.13）。
/0.11μm)、0.18μm、0.35μm等），特殊工艺（模拟与电源，DDIC，IGBT，eNVM，NVM，混合信号与RF，MEMS，IoT解决方案，汽车等）。
21icist注意到，在SMIC的高级逻辑技术中，N + 1生成过程是SMIC第二代高级过程的代号，但具体的数字节点尚不清楚。
但是，根据SMIC披露的数据，与14nm工艺相比，其N + 1生成工艺的性能提高了20％，功耗降低了57％，逻辑面积减少了63％，SoC面积减少了55％。
N + 1代工艺的工艺节点正在赶上7nm工艺，因为从其芯片面积减少一半的数据来看，晶体管的集成度增加了一倍，而TSMC的密度也从14nm增加到7nm。
根据中芯国际的回应，N + 1工艺将在2020年底小批量试生产，并且量产不会遥不可及。
国内高端铸造厂的更换指日可待！ -结尾-
